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第三代半導體(tǐ),全球布局如何?
發布時間:2022-06-17 16:01:57   信息來源:KCIC 浏覽次數:439

一(yī)個熱知(zhī)識,很火(huǒ)的第三代半導體(tǐ)其實市場很小(xiǎo)。可能會有人覺得不可思議,但現實就是如此,台積電(diàn)董事長劉德音曾直接指出,第三代半導體(tǐ)産值小(xiǎo),無法與矽基半導體(tǐ)相比,是特殊技術。研究機構的數據也能證明這一(yī)點,TrendForce預測,GaN(氮化镓)市場到2025年成長為8.5億美元,而SiC則為33.9億美元。與高達數千億美元的半導體(tǐ)市場來說,第三代半導體(tǐ)确實隻占了那麼一(yī)丢丢。

但在新能源汽車(chē)、5G通信等新興領域的推動下(xià),“小(xiǎo)市場”顯然并沒有妨礙第三代半導體(tǐ)成為新的兵家戰場,尤其對于各大(dà)代工(gōng)廠商(shāng)。從當前布局來看,台積電(diàn)、聯電(diàn)、世界先進等各大(dà)代工(gōng)廠都已經加入這場競争激烈的第三代半導體(tǐ)戰役中(zhōng)。

圖源:數位時代

圖源:數位時代

一(yī)、台積電(diàn),用錢砸出來的GaN

作為全球晶圓代工(gōng)的龍頭,台積電(diàn)在第三代半導體(tǐ)領域已布局久矣,2014年在6英寸晶圓廠制造GaN組件;2015年生(shēng)産用于低壓和高壓應用的GaN組件;2017年開(kāi)始量産GaN-on-Si組件;去(qù)年年底有傳聞稱台積電(diàn)已具備8英寸量産能力,不過未得證實。

在台積電(diàn)看來,第三代半導體(tǐ)的競争優勢就在于功率與射頻(pín)應用,因此相較于碳化矽,台積電(diàn)更看好氮化镓的快充、輕薄、效率高的特性,更專注于氮化镓的材料與技術開(kāi)發,并鎖定快充、數據中(zhōng)心、太陽能電(diàn)力轉換器、48V 直流電(diàn)源轉換器、電(diàn)動車(chē)車(chē)載充電(diàn)器與轉換器等5大(dà)領域,搶攻商(shāng)機。

據台媒《财訊》報道,台積電(diàn)在第三代半導體(tǐ)領域的研發靠的是自己花錢,由最基礎堆棧不同材料的磊晶技術開(kāi)始研究。外(wài)界觀察,台積電(diàn)仍是以矽基闆的化合物(wù)半導體(tǐ)為主,雖然這種技術在通訊上應用有限,但在電(diàn)動車(chē)等應用上相當有競争力。

其實早在2014年,台積電(diàn)就已經為愛爾蘭氮化镓功率IC設計公司Navitas代工(gōng)生(shēng)産。此前Navitas首席運營官/首席技術官兼聯合創始人Dan Kinzer說,“台積電(diàn)的交付和質量結果不言而喻,每月出貨量超過 100 萬個 GaNFast 電(diàn)源 IC,總出貨量超過 1300 萬個,現場故障為零。”到了2020年,台積電(diàn)還獲得了意法半導體(tǐ)矽基氮化镓代工(gōng)訂單,為其生(shēng)産車(chē)用的化合物(wù)半導體(tǐ)芯片。可以說,台積電(diàn)已經是目前在氮化镓領域表現較為突出的代工(gōng)業者。

台積電(diàn)本身也是十分(fēn)重視對氮化镓技術的研發,從2021年财報可以看出,其矽基氮化镓Gen-1 技術平台在 2021 年得到了進一(yī)步增強,以支持客戶的各種市場應用,第二代技術則正在開(kāi)發中(zhōng),計劃2022年完工(gōng)。

财報透露,2021年,台積電(diàn)通過了第一(yī)代650V增強型GaN高電(diàn)子遷移率晶體(tǐ)管(E-HEMT)的改進版本,進入全産能量産,市場已推出超過130款充電(diàn)器,為此台積電(diàn)不斷擴大(dà)産能以滿足客戶需求。其第二代650V和100V功率E-HEMT經過研發後,FOM(品質因數)提升50%,将于2022年投産;100V耗盡型GaN高電(diàn)子遷移率晶體(tǐ)管(D-HEMT)完成器件開(kāi)發,預計也于2022年投産 。除此之外(wài),台積電(diàn)甚至已經開(kāi)始第三代650V電(diàn)源E-HEMT的研發,并預計2025年交付。

當然技術上的成功離(lí)不開(kāi)資(zī)本的支撐。第三代半導體(tǐ)所屬的特殊制程作為台積電(diàn)的發展重點,去(qù)年台積電(diàn)将特殊制程在成熟制程的占比拉高到 60%,并由成熟制程升級轉換特殊制程支持第三代半導體(tǐ)發展。而今年,台積電(diàn)預計2022年為400億~440億美元,其中(zhōng)10%~20%花在特殊制程,也就是說,大(dà)約能有40億美元~88億美元用在特殊制程上。

二、聯電(diàn),搶進8英寸

作為晶圓代工(gōng)二哥的聯電(diàn)先前的第三代半導體(tǐ)布局,主要通過轉投資(zī)聯穎切入。據悉,聯穎是聯電(diàn)投資(zī)事業群的一(yī)員(yuán),成立于 2010 年,主要提供 6 英寸砷化镓晶圓代工(gōng)服務,生(shēng)産 CMOS 制程的二極管、MOSFET、及濾波器等,終端産品應用領域包括手機無線通信、微波無線大(dà)型基地站、無線微型基地台、國防航天、光纖通訊、光學雷達及 3D 感測組件等。

在發展路線方面,聯電(diàn)以提供功率、射頻(pín)組件方案為主,初期以氮化镓技術先行,待其技術發展成熟後,下(xià)一(yī)步才會朝碳化矽開(kāi)始布局。從目前來看,聯電(diàn)仍處于主攻氮化镓階段,不過不同于台積電(diàn)的矽基氮化镓,聯電(diàn)采取Qromis研發的特殊基闆QST開(kāi)發氮化镓技術,預期2022年将提供8英寸 GaN on QST方案,主攻650~1,200V的功率範圍。

據了解,QST基闆相較業界以矽作為基闆,具有與氮化镓磊晶層更緊密匹配的熱膨脹系數(CTE),在制程中(zhōng)堆棧氮化镓的同時,也能降低翹曲破片,更有利于晶圓代工(gōng)廠實現量産。

考慮到目前業界氮化镓整體(tǐ)解決方案提供者較少,聯電(diàn)還與比利時微電(diàn)子研究中(zhōng)心(IMEC)進行技術研發合作,将相關技術朝平台化發展,完成後會把平台開(kāi)放(fàng)給設計公司客戶使用,擴大(dà)接單利基。據聯電(diàn)協理鄭子銘去(qù)年年底透露,氮化镓技術平台建置已逐漸成形,預期2022年将進入Design in(産品設計入客戶解決方案中(zhōng))階段,率先提供的解決方案将以矽基氮化镓為主,朝消費(fèi)性功率組件代工(gōng)切入,提供6英寸晶圓方案。

2021年為了沖刺氮化镓領域,聯電(diàn)與封測廠颀邦宣布雙方将透過換股,換股合作後,聯電(diàn)将成為颀邦最大(dà)單一(yī)股東,也将透過與颀邦的上下(xià)遊整合,擴大(dà)在第三代半導體(tǐ)領域的布局。據悉,颀邦在電(diàn)源功率組件及射頻(pín)組件封測市場經營多年,封測技術已量産于砷化鉀、碳化矽、氮化镓等化合物(wù)晶圓。聯電(diàn)在2021年财報中(zhōng)也指出,将積極投入開(kāi)發化合物(wù)半導體(tǐ)氮化镓功率組件與射頻(pín)組件制程開(kāi)發,拟結合颀邦在電(diàn)源功率組件及射頻(pín)組件封測市場之領先地位與先進封裝技術,加速開(kāi)發高效能電(diàn)源功率組件及5G射頻(pín)組件之市場商(shāng)機。

圖源:經濟日報

圖源:經濟日報

财報還顯示,針對5G世代需要更高壓及更高頻(pín)的組件需求,聯電(diàn)開(kāi)發了新的半導體(tǐ)材料制程,包含已經看的量産用于5G通訊的砷化镓組件以及全力開(kāi)發中(zhōng)的滿足更高功率的氮化镓組件,其中(zhōng)寬能隙氮化镓功率組件與微波組件技術平台的開(kāi)發預計在民國112年,也就是2023年完成量産。

圖源:聯電(diàn)财報

圖源:聯電(diàn)财報

随着布局的深入,聯電(diàn)開(kāi)始火(huǒ)力全開(kāi),從6英寸朝着8英寸晶圓進軍。本月初,台媒經濟日報報道,供應鍊透露,聯電(diàn)近期擴大(dà)第三代半導體(tǐ)布局,自行購置蝕刻、薄膜新機台,預計下(xià)半年将進駐8英寸 AB廠。聯電(diàn)财務長劉啟東對此回應,集團在第三代半導體(tǐ)的發展上,仍以聯穎為主,聯電(diàn)則進行研發,不過确實有在合作,但細節不便透露。

衆所周知(zhī),由于第三代半導體(tǐ)薄膜厚度比一(yī)般晶圓厚,容易導緻晶圓彎曲,所以目前多以6英寸為主,8英寸雖然能産出更多的晶片,但顯然難度更大(dà)。聯電(diàn)能搶先布局8英寸,除了看重其經濟效益外(wài),也暗示了對其自身技術的信任。聯電(diàn)資(zī)深處長邱顯欽在去(qù)年表示,“聯電(diàn)現在有很多既有的RF-SOI(射頻(pín)絕緣上覆矽)客戶,再加上聯穎有聯電(diàn)的6英寸廠支撐,最快明後年可以看見成果。”我(wǒ)(wǒ)們也拭目以待。

三、世界先進,有望今年如期量産

對于第三代半導體(tǐ),世界先進董事長方略是這麼看的,“即使再過5年,第三代半導體(tǐ)産值也未必超過(半導體(tǐ)整體(tǐ)市值的)1%,但是新材料(碳化矽、氮化镓)衍生(shēng)的商(shāng)機,将突破矽材料無法做到的領域,将是值得探索的嶄新世界。”

正是看到了第三代半導體(tǐ)所衍生(shēng)出來的巨大(dà)商(shāng)機,世界先進在2018年就宣布朝量産氮化镓芯片的目标努力。去(qù)年11月的法說會上,方略指出,基于GaN on QST制程的産品已經有客戶進行原型設計與送交制造,目前已經出貨的兩批産品線都通過可靠性測試,預計2021年底前會完成所有的程序設計,順利的話(huà)2022年上半年會看到有實際産品面世。

在技術方面,世界先進建立了完整的氮化镓加工(gōng)技術,除了前後段制程都自行完成,同時也會建立自己的晶圓薄化技術。

基闆方面,世界先進與聯電(diàn)一(yī)樣,選擇QST基闆技術,憑借着QST基闆材料,世界先進将生(shēng)産出8英寸氮化镓晶圓,如果能與世界先進既有的8英寸機台設備、管理與開(kāi)發相互配合使用,或許會在2022年如期量産基于QST基闆的氮化镓組件。

除了傳統的純晶圓代工(gōng)廠,IDM廠商(shāng)也積極卡位,比如三星加入南(nán)韓官方計劃沖刺第三代半導體(tǐ)布局。去(qù)年5月,韓國政府發布了一(yī)份先進功率半導體(tǐ)研發和産能提升計劃,計劃到2025年将市場競争力提升到全球水平,至少有5種先進的功率半導體(tǐ)産品上市。韓國産業通商(shāng)資(zī)源部在一(yī)份聲明中(zhōng)表示,将與韓國國内的代工(gōng)廠建立6 - 8英寸的制造工(gōng)藝,以擴大(dà)相關的代工(gōng)服務。

四、寫在最後

代工(gōng)廠搶先入局第三代半導體(tǐ)并非沒有原因,除了那誘人的商(shāng)機外(wài),還有設備相容度。漢磊科技前總經理莊淵棋曾于論壇分(fēn)析稱,入氮化镓代工(gōng)技術跟代工(gōng)廠原本的設備相容度達9成以上,且氮化镓有機會轉到8英寸廠投片,因此隻要多添購專用設備就好了。

當前聯電(diàn)、世界先進都已經向8英寸邁進,相信在不遠的未來,代工(gōng)廠們在第三代半導體(tǐ)領域的付出會相繼顯現,這個産業也将變得更加旺盛。